2008年7月25日
みずほ情報総研株式会社

みずほ情報総研株式会社（本社：東京都千代田区、代表取締役社長：小原 之夫）は、本日より、めっきプロセスの最適設計を支援する高速解析ツール「FabMeister-EP」ver.3.0の販売を開始いたします。

エレクトロニクス分野における電子デバイスの微細化、精密化、3 次元化に伴い、従来までの試行錯誤によるめっきプロセスの設計は限界に達しており、理論に基づくプロセス設計技術の重要性が高まっています。みずほ情報総研では、2005年より、製造現場における装置設計、パターン設計、パターンレイアウトなどのめっきプロセスの最適設計を支援するシミュレータ「FabMeister-EP」（*1）を提供してまいりました。本ソフトウェアは、めっき膜厚分布の最適化に要する試作工程を大幅に削減することを可能とするものです。

新たに発売する「FabMeister-EP」ver.3.0では、ユーザインターフェース、汎用CADデータのインポート、3次元解析などの機能を大幅に拡充し、容易な操作性とより高度な解析機能を実現しました。従来困難であった、パターンめっきにおけるワーク面内から個別パターンに至る全スケールの膜厚分布の3次元解析を可能とするとともに、めっき槽内の物質輸送の解析機能を新たに追加し、ダマシンプロセス（*2）やフィリングめっき（*3）など、イオンや添加剤の拡散・泳動が支配的なめっきプロセスのシミュレーションを可能としました。

みずほ情報総研では、今後3年間で50ライセンスの販売を見込んでおり、導入サポートからカスタマイズ、受託解析などのコンサルティングサービスを通じ、めっきプロセスの最適設計を支援いたします。